美國記憶體龍頭美光宣布，要在未來20年內投資高達1,000億美元，約新台幣3.16兆元，在紐約建立一個大型半導體製造園區，目標要打造世界最大的半導體製造基地。目前第一階段到2030年，將先投資200億美元，隨市場需求逐漸擴產，並在20年內達到1000億美元的目標，估計為紐約居民，創造將近5萬個工作機會。
美光設10年目標 DRAM全球產量占比破40%
美國製造晶片又有了最新進度，記憶體大廠美光宣布，在紐約州克萊鎮投資高達1,000億美元，也就是大約台幣3兆元來建廠，預計這座超級晶圓廠將成為全球最大的半導體製造工廠。
美光執行長梅洛特拉（Sanjay Mehrotra）表示，「非常令人興奮的是，這將是過去美國投資過最大的半導體設施案，就在紐約市中心，我們計劃要投資最多1000億美元，第一階段是在這10年內投入200億美元。」
美光克萊廠將為紐約創造大約5萬個工作機會，2024年將會開始動工，在2026到2030年間開始運作，並配合產業需求逐漸增產，目標是未來的十年DRAM全球產量佔比要達到40%。
梅洛特拉說，美光想為這地區創造美光業務機會，帶來具成本效益、大量且高品質的製造，來滿足不斷成長的記憶體需求以及短缺。
Canon暌違21年蓋新廠 拚微影設備產能倍增
不僅美光看好半導體發展，日本半導體設備商Canon也有所行動，暌違21年蓋新的微影設備廠，工廠將斥資500億日圓，在2023年動工，力爭2025年開始啟用。
據了解，新的工廠目標將微影設備產能提升到兩倍以上，也計畫研發新的光刻設備，希望以更高產能滿足強大的市場需求。
台北／王情樺、陳昱志 責任編輯／陳盈真